仪器品牌：蔡司（Zeiss）

仪器型号：ORION NanoFab

基本功能：

聚焦离子束直写系统主要应用在微纳制造平台中，在平台中具有实现纳米尺度图形的高精度制备和表征的功能，可用于纳米结构的直接刻蚀加工，可实现50nm以下图形结构的高质量制备，可实现高效、高精度的亚10纳米级结构加工；可用于观察半导体电路分析、光刻、石墨烯等敏感材料、页岩等岩石样品、氮化硅、有机光伏材料等。

仪器主要技术参数：

1. 视野范围：900μm~100nm @ 8mm 工作距离；

2. 氦离子束：成像分辨率0.5nm；束流0.1~10pA；切割线宽≤10nm；

3. 镓离子束：成像分辨率3.0nm；束流1pA~100nA；切割线宽≤50nm；

送样要求：

1.固体粉末或块状样品，块状直径小于40mm，高度小于30mm，样品表面无浮粉，粉末样品粘贴后用氮枪吹去浮粉。

2.测试样品应具有良好的导电性且无磁性(磁铁吸不起来)。

3.测试样品热稳定性好，不含有水分或其它易挥发物。

联系方式：

测试地点：综合楼208

管理人员：戴玉洁

联系电话：1868070311