仪器品牌：法国联想概念（Alliance Concept）

仪器型号：DP650

基本功能：

1. 电极制备：可进行半导体工业多种电极制备，如Au/Ag/Cu等

2. 氧化物沉积：可进行绝缘层，半导体薄膜沉积。

仪器主要技术参数：

1.极限真空度：小于1.0×10-7mbar

2.靶位：4个（可连续进行4种不同材料沉积）

3.电源类型：射频，直流

4.工位：2个（高温工位和冷却工位各一个）

5.工作气体：Ar、N2、O2

6.载物台：4寸圆盘

7.目前拥有的靶材：Au、Ag、Cu、Cr、Ti、Mo、Ni、Co、Fe、Ge、CuNi、Bi、Al、ITO、AZO、ZnO、CZTS、Si、SiO2、Al2O3、Si3N4、TiO2、Ca2O3、ZnS等，也可自行提供靶材（靶材规格：直径151*3mm，背靶直径157.5*3mm）

7.可进行离子轰击清洗

送样要求：

1.镀膜样品尺寸最大不超过4寸圆盘；高度不超过5cm；

2.进行氧化物镀膜时样品需耐高温；

3.磁性样品需固定在非磁性大质量基底上，防止被腔室永磁铁粉吸附；

4. 需自行提前制备好样品。

联系方式：

测试地点：综合楼南超净间

管理人员：胡磊

联系电话：18623603767