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微纳加工测试

二元曝光机

仪器品牌:ABM, Inc.

仪器型号:ABM/6/350/NUV/DCCD/BSV/M

 

基本功能:

通过紫外波长光线,将掩膜版或其他透明体上的图像信息转移到涂有感光物质(光刻胶)的表面上。

 

仪器主要技术参数:

1.曝光时间:0.1至999.9秒(可调节精度0.1s);
2.光强均匀性Beam Uniformity::<±1% over 2英寸区域,<±2% over 4英寸区域,<±3% over 6英寸区域;
3.波长365nm紫外光源,强度18-20 mW/cm2;
4.正面对准精度±0.5um,背面对准精度±1um-±2um;
5.支持正胶、负胶及Su8胶等的厚胶光刻,特征尺寸:100um-300um;
6.支持真空、接近式、接触式曝光;
7.支持恒定光强或恒定功率模式;

 

送样要求:

1.样品最大尺寸不超过9英寸(圆/方片);

2.曝光前样品必须保存在暗盒里,不能经过自然光或者蓝光的照射;

3.其他要求面议

 

联系方式:

放置地点:综合楼南超净间

管理人员:戴玉洁

联系电话:18680703116